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產品簡介
滿足各種掃描電鏡導電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求
?磁控濺射+熱蒸發鍍碳雙功能
?滿足各種掃描電鏡導電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求
?多功能樣品臺支持旋轉、升降及傾斜功能
?雙功能一鍵切換一鍵鍍膜，全自動操作
?雙組件均配備防污染系統有效保護鍍膜組件
?進口分子泵極限真空優于5E-3Pa
主要參數 | |||
外形尺寸 | 278(L)×494(H)×467(D) mm | 供電要求 | AC220V/50Hz ＜1000W |
濺射靶材 | Φ50mm，厚度0.1-2mm | 可用靶材 | 所有金屬、導電材料等 |
工作電流 | 1-200mA可調（步長：1mA） | 鍍膜時間 | 1-9999s可調（步長：1s） |
蒸發源 | 高純碳纖維 | 蒸發模式 | 閃斷模式、脈沖模式 |
真空室 | 170(L)×150(H)×163.5(D) mm 一體加工金屬腔室 | 極限真空 | ≤5×10-3Pa |
真空泵 | 旋片泵（可選干泵）+分子泵 | 主真空泵抽速 | 90L/s |
預濺射 | 全自動預濺射系統，防止樣品污染及組件污染、提高鍍膜純度 | ||
樣品臺 | Φ80mm，支持旋轉、升降及傾斜功能 | ||
其它 | 真空度、工作電流可實時曲線顯示 | ||
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