型號(hào)：AT650P/850P(等離子體增強(qiáng)型）      AT650T/850T（熱型）

AT650T/850T可在用戶現(xiàn)場升級(jí)為AT650P/850P

技術(shù)參數(shù)：

·小型桌面等離子體型 

·基體溫度高達(dá)400℃ 

·具有空心陰極源

       更快生長速率

       更高電子密度

       更低等離子體損傷

       更少氧氣污染 

·配置高頻率射頻的空心等離子體 

·以熱型ALD成本提供經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的等離子體系統(tǒng) 

·3種有機(jī)金屬源(可加熱至185℃),1個(gè)常溫源(可升級(jí)至185℃)和最多4種氧化劑/還原劑源

·耐高溫的快速脈沖ALD閥門，配備超快MFC進(jìn)行集成惰性氣體吹掃-標(biāo)配 

·高達(dá)6英寸或8英寸的基板，并可提供定制卡盤/底座

·靜態(tài)反應(yīng)模式下可實(shí)現(xiàn)高覆蓋

可供選項(xiàng)：

·定制卡盤/底座 

·QCM(石英晶體微天平) 

·為您的瓶子設(shè)計(jì)起泡器 

·負(fù)載鎖(或手套箱接口) 

·共反應(yīng)物線(MFC控制)(最多可增加2條) 

·額外升級(jí)前驅(qū)體加熱管線至185℃,共4條

   咨詢可定制系統(tǒng)

客戶案例：

全球100多家用戶，多家重復(fù)購買的用戶：

哈佛大學(xué)

赫爾辛基大學(xué)（Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen）

泛林集團(tuán) (LAM) （3臺(tái)以上）

牛津大學(xué)（2臺(tái)以上， Prof Sebastian Bonilla）

國立材料科學(xué)研究所(日本，多臺(tái))

東京大學(xué)(多臺(tái))

早稻田大學(xué)(多臺(tái))

西北大學(xué)(美國)

劍橋大學(xué)(英國)

萊斯大學(xué)

英屬哥倫比亞大學(xué)(加拿大)

ENS-Paris(法國、高等師范學(xué)院)

北京量子研究院

北京大學(xué)

布里斯托大學(xué)（英國）

謝菲爾德大學(xué)等等

重復(fù)購買客戶的具體運(yùn)用：

1.  早稻田大學(xué) (Waseda University) (日本東京) - 傳感器、表面改性、納米壓印光刻、優(yōu)良通孔制造 (AIST) – 日本茨城縣

2.  早稻田大學(xué) (Waseda University) (日本東京) – 系統(tǒng) #2；類似應(yīng)用。日本神奈川縣橫濱國立大學(xué) (Yokohama National University)

13. 國立材料科學(xué)研究所 (NIMS) #1 (日本茨城縣) - 表面和薄膜中的聲子；原子尺度低維等離激元學(xué)；納米材料中的自旋軌道分裂

14. 國立材料科學(xué)研究所 (NIMS) #2 (日本茨城縣) - 碳納米管中的自旋相關(guān)輸運(yùn)；納米間隙制造和分子輸運(yùn)；石墨烯中的帶隙工程；有機(jī)晶體管

21. 私人公司 (Private Company) (美國俄勒岡州波特蘭) - TEM 樣品制備；HfO2, Al2O3, Ta2O5

22. Precision TEM (美國加利福尼亞州圣克拉拉) - TEM 樣品制備；HfO2, Al2O3

43. 私人公司 TK (Private Company TK) (日本宮城縣) - TEM 樣品制備

44. 私人公司 (Private Company) (美國俄勒岡州波特蘭) - TEM 樣品制備；HfO2, Al2O3, Ta2O5

45. 東京大學(xué) (University of Tokyo) (日本) – 優(yōu)良 ALD 工藝

93. 東京大學(xué) (University of Tokyo) – 日本東京 – Dr. Onaya

91. 泛林集團(tuán) (LAM Research) – 美國俄勒岡州圖瓦拉丁 (Tualatin)

97. 泛林集團(tuán) (LAM) 系統(tǒng) #2 – 美國俄勒岡州圖瓦拉丁

98. 泛林集團(tuán) (LAM) 系統(tǒng) #3 – 美國俄勒岡州圖瓦拉丁

99. 牛津大學(xué) (University of Oxford) – 英國牛津 - Prof Sebastian Bonilla

100. 德島大學(xué) (Tokushima University) (日本)

101. 赫爾辛基大學(xué) (University of Helsinki) (芬蘭) Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen

102. 應(yīng)用材料公司 (AMAT - Applied Materials) – 美國

103. 牛津大學(xué) (University of Oxford) (英國牛津)